ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТАМОЖЕННЫЙ КОМИТЕТ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ПРИКАЗ ОТ 26 ИЮЛЯ 2004 Г. N 796 О КОНТРОЛЕ ЗА ЭКСПОРТОМ ТОВАРОВ И ТЕХНОЛОГИЙ ДВОЙНОГО НАЗНАЧЕНИЯ, КОТОРЫЕ МОГУТ БЫТЬ ИСПОЛЬЗОВАНЫ ПРИ СОЗДАНИИ ВООРУЖЕНИЙ И ВОЕННОЙ ТЕХНИКИ

стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом; и
три или более оси, которые могут
быть совместно скоординированы для
контурного управления; или
б) пять или более осей, которые
могут быть совместно
скоординированы для контурного
управления

Примечание.
По пункту 2.2.1.3 не
контролируются следующие
шлифовальные станки:
а) круглошлифовальные,
внутришлифовальные и
универсальные шлифовальные станки,
обладающие всеми следующими
характеристиками: предназначенные
лишь для круглого шлифования; и
с максимально возможной длиной или
наружным диаметром обрабатываемой
- детали 150 мм;
- б) станки, специально
разработанные как
координатно-шлифовальные, не
имеющие Z-оси или W-оси, с
точностью позиционирования со
всеми доступными компенсациями
меньше (лучше) 3 мкм в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
- его национальным эквивалентом;
- в) плоскошлифовальные станки;

- 2.2.1.4. Станки для электроискровой 8456 30
обработки (СЭО) беспроволочного
типа, имеющие две или более оси
вращения, которые могут быть
совместно скоординированы для
- контурного управления;

- 2.2.1.5. Станки для обработки металлов, 8424 30 900 0;
- керамики или композиционных 8456 10 00;
- материалов, имеющие все следующие 8456 90 000 0
характеристики:
а) обработка материалов
осуществляется любым из следующих
способов: струями воды или других
жидкостей, в том числе с
- абразивными присадками;
- электронным лучом; или лазерным
лучом; и
б) имеющие две или более оси
вращения, которые:
могут быть совместно
скоординированы для контурного
управления; и
имеют точность позиционирования
- менее (лучше) 0,003 град.;

- 2.2.1.6. Сверлильные станки для сверления 8458;
- глубоких отверстий или токарные 8459 21 000 0;
- станки, модифицированные для 8459 29 000 0
сверления глубоких отверстий,
обеспечивающие максимальную
глубину сверления отверстий более
5000 мм, и специально
разработанные для них компоненты

- 2.2.2. Станки с числовым программным 8464 20 110 0;
- управлением, использующие процесс 8464 20 190 0;
- магнитореологической чистовой 8464 20 950 0;
- обработки (МРЧО) 8465 93 000 0

Техническое примечание.
Для целей пункта 2.2.2 под МРЧО
понимается процесс съема
материала, использующий
абразивную магнитную жидкость,
вязкость которой регулируется
магнитным полем

- 2.2.3. Станки с числовым программным 8461 40 710 0;
- управлением или станки с ручным 8461 40 790 0
управлением и специально
предназначенные для них
компоненты, оборудование для
контроля и приспособления,
специально разработанные для
шевингования, финишной обработки,
шлифования или хонингования
закаленных (R = 40 или более)
c
прямозубых цилиндрических,
косозубых и шевронных шестерен
диаметром делительной окружности
более 1250 мм и шириной зубчатого
венца, равной 15% от диаметра
делительной окружности или более,
с качеством после финишной
обработки по классу 3 в
соответствии с международным
стандартом ISO 1328

2.2.4. Горячие изостатические прессы, 8462 99
имеющие все нижеперечисленное, и
специально разработанные для них
компоненты и приспособления:
а) камеры с регулируемыми
температурами внутри рабочей
полости и внутренним диаметром
полости камеры 406 мм и более; и
б) любую из следующих
характеристик: максимальное
- рабочее давление выше 207 МПа;
- регулируемые температуры выше 1773
К (1500 град. C); или оборудование
для насыщения углеводородом и
удаления газообразных продуктов
разложения

Техническое примечание.
Внутренний размер камеры относится
к полости, в которой достигаются
рабочие давление и температура,
при этом исключаются установочные
приспособления. Указанный выше
размер будет наименьшим из двух
размеров - внутреннего диаметра
камеры высокого давления или
внутреннего диаметра изолированной
высокотемпературной камеры - в
зависимости от того, какая из этих
камер находится в другой

2.2.5. Оборудование, специально
разработанное для осаждения,
обработки и активного управления
процессом нанесения неорганических
покрытий, слоев и модификации
поверхности (за исключением
формирования подложек для
электронных схем) с использованием
процессов, указанных в таблице к
пункту 2.5.3.6 и отмеченных в
примечаниях к ней, а также
специально разработанные для него
автоматизированные компоненты
установки, позиционирования,
манипулирования и регулирования:

2.2.5.1. Производственное оборудование для 8419 89 989 0
химического осаждения из паровой
фазы (CVD), имеющее все
нижеследующее:
а) процесс, модифицированный для
реализации одного из следующих
методов: CVD с пульсирующим
режимом; термического осаждения с
управляемым образованием центров
кристаллизации (CNTD); или CVD с
применением плазменного разряда,
модифицирующего процесс; и
б) включающее любое из следующего:
высоковакуумные (вакуум, равный
0,01 Па или ниже (лучше))
вращающиеся уплотнения; или
средства регулирования толщины
- покрытия в процессе осаждения;

- 2.2.5.2. Производственное оборудование 8543 10 000 0
ионной имплантации с током пучка 5
- мА или более;

- 2.2.5.3. Технологическое оборудование для 8543 70 900 9
физического осаждения из паровой
фазы, получаемой нагревом
электронным пучком (EB-PVD),
включающее силовые системы с
расчетной мощностью более 80 кВт
и имеющее любую из следующих
составляющих:
а) лазерную систему управления
уровнем жидкой ванны, которая
точно регулирует скорость подачи
заготовок; или
б) управляемое компьютером
контрольно-измерительное
устройство, работающее на принципе
фотолюминесценции ионизированных


Страницы: 11 из 93  <-- предыдущая  cодержание   следующая -->