Приказы министерств и ведомств

ТАБЛИЦА К ПУНКТУ 2.5.3.6. ТЕХНИЧЕСКИЕ ПРИЕМЫ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ

(О контроле за экспортом товаров и технологий двойного назначения, которые могут быть использованы при создании вооружений и военной техники. Приказ ГТК РФ от 26.07.2004 № 796)

Вывоз (экспорт) товаров. Таможенное дело




- давление;
- время цикла;

- 2.5.3.3. Технологии для разработки или
производства гидравлических
прессов для штамповки с вытяжкой и
соответствующих матриц для
изготовления конструкций корпусов
- летательных аппаратов;

- 2.5.3.4. Технологии для разработки
генераторов машинных команд для
управления станком (например,
программ обработки деталей) на
основе проектных данных, хранимых
в блоках числового программного
- управления;

- 2.5.3.5. Технологии для разработки
комплексного программного
обеспечения для включения
экспертных систем, повышающих в
заводских условиях операционные
возможности блоков числового
- программного управления;

- 2.5.3.6. Технологии для осаждения,
обработки и активного управления
процессом нанесения внешних слоев
неорганических покрытий, иных
покрытий и модификации поверхности
(за исключением формирования
подложек для электронных схем) с
использованием процессов,
указанных в таблице к настоящему
пункту и примечаниях к ней

Особое примечание.
Нижеследующая таблица определяет,
что технология конкретного
процесса нанесения покрытия
подлежит экспортному контролю
только при указанных в ней
сочетаниях позиций в колонках
"Получаемое покрытие" и
"Подложки". Например, подлежат
контролю технические
характеристики процесса нанесения
силицидного покрытия методом
химического осаждения из паровой
фазы (CVD) на подложки из
углерод-углерода и композиционных
материалов с керамической или
металлической матрицей. Однако,
если подложка выполнена из
металлокерамического карбида
вольфрама (16) или карбида кремния
(18), контроль не требуется, так
как во втором случае получаемое
покрытие не указано в
соответствующей колонке для этих
подложек (металлокерамический
карбид вольфрама и карбид кремния)
----------------------------------------------------------------------

Таблица к пункту 2.5.3.6
Технические приемы нанесения покрытий


Получаемое покрытие



1. Химическое суперсплавы алюминиды на поверхности
осаждение из внутренних каналов
паровой фазы


керамика (19) и стекла силициды, карбиды,
с малым коэффициентом диэлектрические слои
линейного расширения (15), алмаз,
(14) алмазоподобный углерод


углерод-углерод, силициды, карбиды,
композиционные тугоплавкие металлы,
материалы с смеси перечисленных выше
керамической или материалов (4),
металлической матрицей диэлектрические слои
(15),
алюминиды,
сплавы на основе
алюминидов (2),
нитрид бора

металлокерамический карбиды,
карбид вольфрама вольфрам,
(16), карбид кремния смеси перечисленных выше
(18) материалов (4),
диэлектрические слои (15)

молибден и его сплавы диэлектрические слои (15)

бериллий и его сплавы диэлектрические слои
(15),
алмаз,
алмазоподобный углерод


материалы окон диэлектрические слои
датчиков (9) (15),
алмаз,
алмазоподобный углерод


2. Физическое
осаждение из
паровой фазы,
получаемой
нагревом

2.1. Физическое суперсплавы сплавы на основе
осаждение из силицидов,
паровой фазы, сплавы на основе
полученной алюминидов (2), MCrAlX
нагревом (5), модифицированный
электронным диоксид циркония (12),
пучком силициды, алюминиды,
смеси перечисленных выше
материалов (4)

керамика (19) и стекла диэлектрические слои (15)
с малым коэффициентом
линейного расширения


коррозионно-стойкие MCrAlX (5),
стали (7) модифицированный диоксид
циркония (12),
смеси перечисленных выше
материалов (4)

углерод-углерод, силициды,
композиционные карбиды,
материалы с тугоплавкие металлы,
керамической или смеси перечисленных выше
металлической матрицей материалов (4),
диэлектрические слои
(15),
нитрид бора

металлокерамический карбиды,
карбид вольфрама (16), вольфрам,
карбид кремния (18) смеси перечисленных выше
материалов (4),
диэлектрические слои (15)

молибден и его сплавы диэлектрические слои (15)

бериллий и его сплавы диэлектрические слои
(15),
бориды,
бериллий

материалы окон диэлектрические слои (15)
датчиков (9)

титановые сплавы (13) бориды,
нитриды

2.2. Ионно- керамика (19) и стекла диэлектрические слои
ассистированное с малым коэффициентом (15),
физическое линейного расширения алмазоподобный углерод
осаждение из (14)
паровой фазы,
полученной ре- углерод-углерод, диэлектрические слои (15)
зистивным наг- композиционные
ревом (ионное материалы с
осаждение) керамической или
металлической матрицей

металлокерамический диэлектрические слои (15)
карбид вольфрама (16),
карбид кремния (18)

молибден и его сплавы диэлектрические слои (15)

бериллий и его сплавы диэлектрические слои (15)

материалы окон диэлектрические слои
датчиков (9) (15),


Страницы: 14 из 93  <-- предыдущая  cодержание   следующая -->